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3 Publikationen


2004 | Artikel | FH-PUB-ID: 3542
Hamelmann, Frank ; Brechling, A. ; Aschentrup, A. ; Heinzmann, U. ; Jutzi, P. ; Sandrock, J. ; Siemeling, U. ; Ivanova, T. ; u. a.: Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition. In: Thin Solid Films Bd. 446, Elsevier BV (2004), Nr. 2, S. 167–171
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2000 | Artikel | FH-PUB-ID: 3550
Hamelmann, Frank ; Haindl, G ; Schmalhorst, J ; Aschentrup, A ; Majkova, E ; Kleineberg, U ; Heinzmann, U ; Klipp, A ; u. a.: Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD. In: Thin Solid Films Bd. 358, Elsevier BV (2000), Nr. 1–2, S. 90–93
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1999 | Artikel | FH-PUB-ID: 3553
Hamelmann, Frank ; Petri, S.H.A. ; Klipp, A. ; Haindl, G. ; Hartwich, J. ; Dreeskornfeld, L. ; Kleineberg, U. ; Jutzi, P. ; u. a.: W/Si multilayers deposited by hot-filament MOCVD. In: Thin Solid Films Bd. 338, Elsevier BV (1999), Nr. 1–2, S. 70–74
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